機器名称

走査型X線光電子分光分析装置（多モードトポ解析システム/XPS）

メーカー・型番

アルバック・ファイ株式会社 / PHI Quantera SXM

用途

表面分析（元素同定、定量分析、化学種同定、深さ元素分布情報の取得）

仕様・特徴

• 走査型マイクロフォーカスＸ線源による微小領域分析（最小分析領域 9 μm）
• 32チャンネル検出器の採用による高感度分析SXI ( Scanning X-ray Image ) により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
• 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
• 自在なパラメータ設定による深さ方向分析

• 分析元素範囲：水素を除くすべての元素
• X線源：単色Al Kα
• 最小X線ビーム径：9 μm
• 最高エネルギー分解能：0.5 eV以下（Ag 3d5/2)
• 平均検出可能限界：0.05 atom%
• 平均深さ方向分析：約3 nm

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点A棟 106室

連絡先

機器担当：梅田（内線 9694）